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 更新時(shí)間:2025-10-31
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2025-08-27
2025-08-25
 
      在顯示技術(shù)飛速迭代的當(dāng)下,8K UHD 作為當(dāng)前數(shù)字電視與數(shù)字電影攝像機(jī)領(lǐng)域的高分辨率標(biāo)準(zhǔn),正推動(dòng)著顯示產(chǎn)業(yè)鏈上下游材料的革新。其中,彩色濾光片中的黑矩陣作為關(guān)鍵材料之一,其性能直接決定了屏幕的對(duì)比度、分辨率與光泄漏控制能力。
Luo Cai-Ping 研究團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)出一款黑矩陣光刻膠(BPR-3D),在光密度(OD值)、分辨率、表面電阻、錐角等性能指標(biāo)上實(shí)現(xiàn)提高,為8K UHDTV 彩色濾光片量產(chǎn)提供了材料解決方案。
在傳統(tǒng) LCD 面板中,黑矩陣光刻膠存在三大性能短板,無(wú)法匹配 8K UHD 面板的高規(guī)格要求:
1. 錐角過(guò)小:傳統(tǒng)產(chǎn)品錐角通常低于 45°,易導(dǎo)致光泄漏,直接拉低屏幕對(duì)比度;
2. 分辨率不足:線寬普遍在 10~20μm,難以支撐 8K 顯示對(duì)精細(xì)像素的需求;
3. 光密度偏低:無(wú)法有效阻擋雜光,進(jìn)一步影響顯示畫(huà)質(zhì)。
為此,行業(yè)亟需一款滿(mǎn)足 “四高" 標(biāo)準(zhǔn)的黑矩陣光刻膠:高分辨率(線寬≤5μm)、高錐角(>70°)、高光密度(OD 4.0~4.5/μm)、高表面電阻(>1×101?Ω/□),同時(shí)還需具備低曝光劑量以適配大面積彩色濾光片的量產(chǎn)效率。
研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)優(yōu)化光刻膠配方(選用高阻抗特性的黑色漿料與高靈敏度光引發(fā)劑),結(jié)合工藝設(shè)計(jì),使 BPR-3D 在性能上實(shí)現(xiàn)顯著提高:
此外,BPR-3D 還具備兩大工藝優(yōu)勢(shì):
• 兼容多種顯影液:可適配 KOH 與 Na?CO?兩種常用顯影液,且不同顯影液可調(diào)控錐角,滿(mǎn)足不同的色彩的色濾光片產(chǎn)品的定制化需求;
• 高殘膜率(RFT%):得益于高光交聯(lián)效率,在兩種顯影液體系下均保持優(yōu)異殘膜率,保障圖案完整性與工藝穩(wěn)定性。
為驗(yàn)證 BPR-3D 的量產(chǎn)適用性,研究團(tuán)隊(duì)基于 G3.5 玻璃基板(620×720mm,商用大面積基板)開(kāi)展了系統(tǒng)實(shí)驗(yàn),結(jié)論如下:
采用狹縫涂布機(jī)在 G3.5 裸玻璃基板(620mm*720mm)上涂布 BPR-3D,經(jīng)軟烘后:
• 膜厚均勻性 < 1%(通過(guò)激光共聚焦顯微鏡測(cè)得);
• 光密度(OD)均勻性與膜厚均勻性高度一致,且 OD 值穩(wěn)定在 4.2/μm,證明其具備大面積量產(chǎn)的涂層穩(wěn)定性。

 
 
Labodorf 351C涂層材料透射光密度儀
• 采用傳統(tǒng)接近式掩模對(duì)準(zhǔn)器(Mikasa MA-20)與 Cr 鈉鈣玻璃光刻掩模,在 < 50mJ/cm2 的低曝光劑量下,可穩(wěn)定實(shí)現(xiàn) 5μm 線寬的高分辨率圖案(JOEL SEM 觀測(cè));
• 顯影后圖案邊緣清晰,錐角可控(>70°),滿(mǎn)足 8K 面板對(duì)精細(xì)黑矩陣的要求。
 
 
將涂覆 BPR-3D 的玻璃樣品在 230℃下烘烤 30min 固化后,進(jìn)行多維度可靠性測(cè)試,結(jié)果均表現(xiàn)優(yōu)異:
• 耐溶劑性(NMP 浸泡);
• 耐堿性(1% NaOH 浸泡);
• 高低溫沖擊測(cè)試;
• 高溫高濕測(cè)試;
• 鹽霧測(cè)試;
• 紫外(UV)耐久性測(cè)試。
 
 
這意味著 BPR-3D 在彩色濾光片的后續(xù)制程(如高溫固化、濕制程清洗)及長(zhǎng)期使用中,能保持性能穩(wěn)定,符合量產(chǎn)產(chǎn)品的可靠性標(biāo)準(zhǔn)。
綜合來(lái)看,BPR-3D 黑矩陣光刻膠不僅全面滿(mǎn)足下一代顯示對(duì)黑矩陣的 “四高" 性能要求,還通過(guò)低曝光劑量、兼容多顯影液、高可靠性等特性,解決了大面積 8K 彩色濾光片的量產(chǎn)效率與成本痛點(diǎn)。
參考文獻(xiàn):
[1] Cai-Ping, L., Lin, W.-F., & Hsu, M.- A. (2018). P-6.5: Advanced Black Matrix Photoresist for Next Generation Color Filters. SID Symposium Digest of Technical Papers, 49, 609–610
[2] C. W. Park, J. –B. Lee, Y. R. Do, “Metal-dielectric black matrix for display devices" Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics 3(4), 496-499, (2000).
[3] C. W. Kim, S. G. Rho, D. K. Jung, E. J. Jeong, S. Y. Kim, H. G. Yang “Development of Organic Photoresist For Color Filter Black Matrix" Symposium H – Flat Panel Display Materials II, 329, (2018).
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